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下一代FD-SOI制程將跳過20nm直沖14nm

發布時間:2012-12-17 09:05    發布者:李寬
關鍵詞: SOI , 20nm , 14nm
在一場近日于美國舊金山舉行的FD-SOI (fully depleted silicon on insulator)技術研討會上,產業組織SOI Consortium所展示的文件顯示, FD-SOI 制程技術藍圖現在直接跳過了20nm節點,直接往14nm、接著是10nm發展。

根據SOI Consortium執行總監Horacio Mendez在該場會議上展示的投影片與評論指出,14nm FD-SOI技術問世的時間點約與英特爾 (Intel)的14nmFinFET相當,而兩者的性能表現差不多,FD-SOI的成本則應該會比FinFET低得多。

意法半導體(STMicroelectronics,ST )前段制程部門執行副總裁Joel Hartmann則在同一場由SOI Consortium舉辦的研討會上,展示該公司FD-SOI制程將由28nm──2012下半年量產──跳過20nm,直接前進至14nm、然后10nm的技術藍圖。先前ST曾指出,該公司將在2012年7月推出28nmFD-SOI制程原型,然后會在2013年第三季推出20nmFD-SOI制程原型。

這意味著FD-SOI技術陣營已經改變了對20nm節點的策略,因此下一代的FD-SOI技術將與英特爾的14nmFinFET制程,以及包括臺積電(TSMC)、Globalfoundries等晶圓代工廠所提供的其他FinFET制程,在同一節點上競爭。

Hartmann也提供了以ST的28nmFD-SOI制程與ST-Ericsson多核心ModAp NovaThor處理器搭配,所量測到的最新性能結果;宣稱ST的28nm閘極優先(gate-first) FD -SOI制程與28nmbulk CMOS制程相較,更能達到低功耗以及高性能。

SOI Consortium 的Mendez展示的技術藍圖顯示,FD-SOI現在包括預計2016年問世的10nm制程節點;而這也會是FD-SOI技術被引介為FinFET制程解決方案選項之一的節點。

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