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以2013年Lab4MEMS項(xiàng)目的研發(fā)成果為基礎(chǔ)，實(shí)現(xiàn)下一代應(yīng)用技術(shù) 意法半導(dǎo)體(STMicroelectronics，簡稱ST) 宣布將擔(dān)任Lab4MEMS II項(xiàng)目負(fù)責(zé)人。Lab4MEMS II是以第一代Lab4MEMS項(xiàng)目 (于2013年4月啟動(dòng)) 的的成功經(jīng)驗(yàn)為基礎(chǔ)而被展期的第二代項(xiàng)目，主要研究課題是整合MEMS 和微光學(xué) (Micro-optics) 的微光電機(jī)械系統(tǒng) (MOEMS，Micro-Opto-Electro-Mechanical Systems)，該系統(tǒng)可通過機(jī)械光電集成化系統(tǒng)發(fā)現(xiàn)或控制光信號(hào)，同時(shí)保留原項(xiàng)目為日后升級(jí)開發(fā)的下一代MEMS元件試生產(chǎn)線。下一代的MEMS元件通過應(yīng)用壓電 (piezoelectric) 或磁材料和3D封裝等先進(jìn)技術(shù)，大幅度強(qiáng)化了產(chǎn)品的性能。如同第一代項(xiàng)目一樣，Lab4MEMS II同樣是由納米電子行業(yè)公私合營組織：歐洲納米計(jì)劃顧問委員會(huì) (ENIAC，European Nanoelectronics Initiative Advisory Council) 合作組織(JU，Joint Undertaking) 所發(fā)起。 Lab4MEMS II是一個(gè)耗資2600萬歐元 (3000萬美元) 的項(xiàng)目，合作組織包括來自9個(gè)歐洲國家的20個(gè)工業(yè)、學(xué)術(shù)和科研組織。憑借第一代Lab4MEMS項(xiàng)目打下的成功基礎(chǔ)，Lab4MEMS II項(xiàng)目委托意法半導(dǎo)體擔(dān)任項(xiàng)目協(xié)調(diào)人，為研發(fā)活動(dòng)提供完整的制造、技術(shù)和組織服務(wù)，引領(lǐng)微光電機(jī)械系統(tǒng)的研究發(fā)展，保證歐洲MEMS工業(yè)在世界的領(lǐng)先地位。 意法半導(dǎo)體擁有近1000項(xiàng)MEMS專利權(quán)，產(chǎn)品銷量已突破80億顆，內(nèi)部日產(chǎn)量超過400萬顆，這讓意法半導(dǎo)體成為歐洲MEMS項(xiàng)目負(fù)責(zé)人的最佳人選。Lab4MEMS II項(xiàng)目的主要研究目標(biāo)是采用光學(xué)和標(biāo)準(zhǔn)微加工技術(shù)進(jìn)行設(shè)計(jì)、制造及測(cè)試各種器件，包括光開關(guān) (optical switche)、微反射鏡陣列 (micro-mirror)、光交叉連接器 (optical cross-connect)、激光器、微透鏡 (micro lenses)，以縮減器件尺寸，制造更先進(jìn)的光學(xué)系統(tǒng)。微光電系統(tǒng)是研發(fā)未來高價(jià)值商用產(chǎn)品的理想平臺(tái)，例如光開關(guān)、微反射鏡器件和動(dòng)態(tài)顯示器 (dynamic display)、光學(xué)雙穩(wěn)態(tài)器件 (bi-stable)、光閘 (optical shutter)，這些光學(xué)器件可用于微型投影機(jī)、激光掃描儀、新一代人機(jī)界面以及微型光譜儀 (micro-spectrometer)。該項(xiàng)目以實(shí)現(xiàn)最佳化的單軸雙反射鏡 (dual single-axis mirror) 的制程為目標(biāo)，并致力于研究開發(fā)雙軸單鏡的各種應(yīng)用可能性。 Lab4MEMS II是ENIAC JU簽定的關(guān)鍵使能技術(shù) (KET，Key Enabling Technologies) 試生產(chǎn)線項(xiàng)目，旨在于開發(fā)對(duì)社會(huì)影響巨大的技術(shù)和應(yīng)用。意法半導(dǎo)體歐洲研發(fā)與公共事務(wù)部項(xiàng)目經(jīng)理Roberto Zafalon表示：“ENIAC JU 研究項(xiàng)目的宗旨與意法半導(dǎo)體利用科技提高人們生活品質(zhì)的價(jià)值觀和承諾完全一致。微光電機(jī)械系統(tǒng)是一項(xiàng)很有前景的多功能技術(shù)，能夠使關(guān)鍵的光學(xué)系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)小型化，使項(xiàng)目合作方和包括ENIAC成員國在內(nèi)的利益相關(guān)者從中受益。我們期望開發(fā)成果最終可轉(zhuǎn)化為促進(jìn)長期的經(jīng)濟(jì)增長，創(chuàng)造高價(jià)值知識(shí)型就業(yè)機(jī)會(huì)的動(dòng)力，進(jìn)一步促進(jìn)經(jīng)濟(jì)繁榮并造福社會(huì)。” Lab4MEMS II試生產(chǎn)線將擴(kuò)大意法半導(dǎo)體 Agrate Brianza的 200mm晶片制造廠的產(chǎn)能，并在現(xiàn)有技術(shù)組合中增加光學(xué)技術(shù)。此外，該生產(chǎn)線還將有助于意法半導(dǎo)體提升這些戰(zhàn)略性技術(shù)的實(shí)際研發(fā)經(jīng)驗(yàn)，同時(shí)整合科研能力與各種微型智能系統(tǒng)芯片的研制能力。不僅如此，該項(xiàng)目還將評(píng)估晶片未來升級(jí)到300mm的潛在優(yōu)勢(shì)和影響。 ENIAC JU是一個(gè)公私合營的產(chǎn)學(xué)聯(lián)盟，成員包括ENIAC成員國、歐盟和歐洲納米電子技術(shù)研究協(xié)會(huì) (AENEAS，Association for European Nanoelectronics Activities)。目前該組織通過競標(biāo)的形式為其研發(fā)項(xiàng)目提供大約18億歐元的研發(fā)經(jīng)費(fèi)。意法半導(dǎo)體負(fù)責(zé)的Lab4MEMS II項(xiàng)目于2013年秋季中標(biāo)，2014年11月啟動(dòng)。 除意法半導(dǎo)體外，Lab4MEMS II 項(xiàng)目合作方還包括：Politecnico di Torino and di Milano; Consorzio Nazionale Interuniversitario per la Nanoelettronica; CNR-IMM MDM; Commissariat Al Energie Atomique Et Aux Energies Alternatives; ARKEMA SA; University of Malta; Okmetic Oyj; MURATA Electronics; VTT Memsfab Ltd; Teknologian tutkimuskeskus VTT; Aalto University; KLA-Tencor ICOS; University POLITEHNICA of Bucharest - CSSNT; Instytut Technologii Elektronowej; Warsaw; Stiftelsen SINTEF; Polewall AS; Besi Austria GmbH。 |
