ARM公司18日宣布,已經與臺積電合作完成了全球第一個基于10nm工藝的芯片的流片工作,而且使用了尚未宣布的頂級新架構“Artemis”。 事實上,這次流片早在2015年12月就完成了,ARM預計最近就能拿到從工廠返回的芯片。 這顆測試芯片將是ARM、臺積電共同的測試平臺,用來調試相關工具和制造工藝,從而在性能、功耗、面積方面獲得最優成果。 芯片內集成了四個Artemis CPU核心,頻率有1.82/2.34/2.49/2.7GHz等不同檔次,同時還有當代Mali GPU,但只有一個核心,因為只是用來展示效果而已。 當然了,芯片內還有其他各種IP模塊、IO接口,用來檢驗新工藝。 臺積電這里使用的新工藝是10nm版本,號稱晶體管集成度可比16nm提升最多2.1倍,還能獲得11-12%的性能提升,或者在同頻率下功耗降低30%。 臺積電預計今年底投產10nm工藝,ARM Artemis架構也有望在近期正式發布,取代現在的Cortex-A72。 在2017年第一季度,臺積電將樣品送交客戶認證,最快在2017年第二季度實現小量生產。 ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() 蘋果A11處理器將會采用10nm制程的FinFET工藝生產。從第一枚64位芯片A7到第一枚20nm的A8,再到第一枚16nm的A9,蘋果連續三年聲譽大漲。 不過,10nm支持,也許蘋果不會成為打頭陣的那個了。從國內獲取聯發科內部消息的爆料來看,聯發科 2017 年的旗艦移動芯片Helio X30將會基于10nm工藝打造,而鑒于Helio X20/25在2016 年第一和第二季度正式亮相,按照預期Helio X3也將會在2017年大概同一時間正式發布。 另外,高通明年的移動旗艦芯片Snapdragon 830,很顯然也將基于10nm工藝打造(三星不出意外還是合作伙伴之一),并且為了照顧2017年的春季旗艦,該芯片必然也會在時間點前提前完工出貨。 英特爾多年以來基本都以每2年更新一次的速度改進生產工藝,基本與該公司聯合創始人戈登·摩爾(Gordon Moore)50年前提出的“摩爾定律”保持一致。但要繼續追趕“摩爾定律”的步伐卻越來越困難。英特爾CEO科再奇(Brian Krzanich)此前宣布,10nm的芯片可能要到2017年下半年才能面市。 臺積電則在10nm節點上獲得的突破驚人,盡管臺積電進入1xnm階段時間有些晚,卻后來居上快了英特爾一步;更神奇的是,IBM已經宣布成功研發出了7nm的芯片樣品。顯然,英特爾的工藝優勢幾乎被消耗光了。 |