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3月11日，光刻設備巨頭荷蘭阿斯麥（ASML）與比利時微電子研究中心（imec）共同宣布，雙方已簽署了一項新的五年期戰略合作協議。這一合作標志著兩家在半導體領域具有深厚底蘊的機構將攜手共進，共同推動半導體行業的創新與發展。 根據協議內容，ASML與imec將在先進工藝和可持續發展領域發揮各自的知識和專長。雙方的合作將重點聚焦于開發推動半導體行業發展的解決方案，并制定以可持續創新為重點的計劃。在半導體工藝方面，imec牽頭建設的后2nm制程前沿節點SoC中試線NanoIC將導入包括High NA EUV光刻機在內的一系列ASML先進設備。這些設備的引入將為NanoIC中試線提供強大的技術支持，加速后2nm制程技術的研發與商業化進程。 除了半導體工藝領域的合作外，ASML與imec還將在硅光子學、存儲和先進封裝等前沿領域展開深入合作。這些領域的合作將有助于雙方共同探索半導體技術的未來發展方向，并為整個半導體生態系統提供創新的解決方案。 值得一提的是，ASML還將為imec探索環境和社會效益的創新想法和活動提供資金支持。這一舉措體現了ASML對可持續創新的重視，并彰顯了其在推動半導體行業可持續發展方面的決心。 ASML總裁兼首席執行官Christophe Fouquet在簽約儀式上表示：“這項協議標志著ASML和imec之間的長期合作邁出了新的一步。它標志著我們共同為半導體行業開發解決方案的雄心壯志，也符合我們投資技術和創新以造福全社會的戰略。” imec總裁兼首席執行官Luc Van den Hove也對此次合作表示了高度期待：“我們很高興能繼續與ASML保持長期獨特的合作關系。30多年來，我們為業界提供了最先進的圖案化解決方案。ASML完整產品組合的加入將使我們中試線的能力進一步增大和成熟，為整個半導體生態系統提供最先進的研發技術，以應對AI驅動的技術進步所帶來的挑戰。由于imec非常重視可持續創新，因此將這一事項明確納入我們的合作伙伴關系是一個很好的補充。” |
