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近日，全球領(lǐng)先的影像與光學(xué)產(chǎn)品制造商佳能公司宣布，已成功向位于美國(guó)得克薩斯州的半導(dǎo)體聯(lián)盟得克薩斯電子研究所（TIE）交付了其最先進(jìn)的納米壓印光刻（NIL）系統(tǒng)FPA-1200NZ2C。這一里程碑式的交付標(biāo)志著納米壓印光刻技術(shù)在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域邁出了重要一步，為未來(lái)的芯片生產(chǎn)開(kāi)辟了新的可能性。 佳能此次交付的FPA-1200NZ2C納米壓印光刻機(jī)，是該公司與鎧俠（Kioxia）和大日本印刷公司合作開(kāi)發(fā)的最新成果。該系統(tǒng)自去年10月推出以來(lái)，便以其獨(dú)特的納米壓印技術(shù)和卓越的性能表現(xiàn)，吸引了業(yè)界的廣泛關(guān)注。據(jù)佳能方面介紹，F(xiàn)PA-1200NZ2C能夠?qū)崿F(xiàn)最小14納米的線寬圖案化，支持5納米制程邏輯半導(dǎo)體的生產(chǎn)，為芯片制造商提供了更為高效、精確的制造工具。 與傳統(tǒng)光刻機(jī)通過(guò)光學(xué)成像將電路圖案投影到晶圓上不同，佳能的納米壓印光刻技術(shù)采用物理手段，將已經(jīng)設(shè)計(jì)好的電路圖案模板通過(guò)機(jī)械加壓直接“復(fù)印”到晶圓上的光刻膠中。這種“蓋印章”式的生產(chǎn)方式省去了復(fù)雜的光學(xué)曝光系統(tǒng)，不僅降低了設(shè)備成本，還顯著提高了生產(chǎn)效率。據(jù)佳能產(chǎn)品負(fù)責(zé)人透露，納米壓印光刻機(jī)的價(jià)格將比傳統(tǒng)的極紫外光（EUV）光刻機(jī)少一位數(shù)，且耗電量?jī)H為后者的十分之一。 此次交付的FPA-1200NZ2C將被用于得克薩斯電子研究所的先進(jìn)半導(dǎo)體研發(fā)和原型生產(chǎn)工作。該研究所由德克薩斯大學(xué)奧斯汀分校支持，成員包括英特爾、恩智浦、三星等全球領(lǐng)先的芯片公司，以及公共部門和學(xué)術(shù)組織。這些機(jī)構(gòu)將共同利用這一先進(jìn)設(shè)備，探索納米壓印光刻技術(shù)在半導(dǎo)體制造中的潛力和應(yīng)用前景。 佳能光學(xué)產(chǎn)品副總裁巖本一典表示，公司對(duì)未來(lái)納米壓印光刻技術(shù)的發(fā)展充滿信心，并計(jì)劃在接下來(lái)的三到五年內(nèi)，每年銷售約10到20臺(tái)此類設(shè)備。他強(qiáng)調(diào)，佳能將繼續(xù)加大研發(fā)投入，與全球合作伙伴緊密合作，共同推動(dòng)納米壓印光刻技術(shù)的商業(yè)化進(jìn)程，為全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的進(jìn)步貢獻(xiàn)力量。 盡管納米壓印光刻技術(shù)在成本和生產(chǎn)效率方面具有顯著優(yōu)勢(shì)，但其在實(shí)際應(yīng)用中仍面臨諸多挑戰(zhàn)。例如，如何有效防止塵埃顆粒對(duì)芯片制造的影響，以及如何開(kāi)發(fā)出與納米壓印技術(shù)相兼容的材料等。佳能方面表示，將積極應(yīng)對(duì)這些挑戰(zhàn)，與產(chǎn)業(yè)鏈上下游企業(yè)通力合作，共同推動(dòng)納米壓印光刻技術(shù)的完善和發(fā)展。 |
